Szabványkereső

Hivatkozási szám, azonosító jelzet, vagy a szabványcímben előforduló kulcsszó szerinti keresés:

ICS (a szabványok nemzetközi osztályozási rendszere) szerinti keresés

Nettó ár: 8000 Ft
Kosárba tesz
Alapadatok
Hivatkozási szám
MSZ EN 62047-16:2015
Dokumentumazonosító
161781
Cím
Félvezető eszközök. Mikro-elektromechanikus eszközök. 16. rész: Vizsgálati módszerek a MEMS-rétegek maradványfeszültségének meghatározására. Lapkagörbületi és konzolos sugáreltérítési módszerek (IEC 62047-16:2015)
Angol cím
Semiconductor devices. Micro-electromechanical devices. Part 16: Test methods for determining residual stresses of MEMS films. Wafer curvature and cantilever beam deflection methods (IEC 62047-16:2015)
Alkalmazási terület
This part of IEC 62047 specifies the test methods to measure the residual stresses of films with thickness in the range of 0,01 µm to 10 µm in MEMS structures fabricated by wafer curvature or cantilever beam deflection methods. The films should be deposited onto a substrate of known mechanical properties of Young’s modulus and Poisson’s ratio. These methods are used to determine the residual stresses within thin films deposited on substrate [1]1.
ICS
31.080.99 Egyéb félvezető eszközök
Műszaki Bizottság
MSZT/MCS 820 - Elektronikai alkatrészek
A szabvány nyelve
angol
Az érvényesség kezdete
2015-11-01
További adatok
Forrás
idt IEC 62047-16:2015; idt EN 62047-16:2015
Előd
Utód
Módosítás
Kiegészítő információk
SZK-közlemények
Kapcsolódó európai jogszabály
Kereskedelmi adatok
A szabvány
kapható formátuma
Papír ,
PDF (letöltés) (a fájl mérete: 458715) ,
oldalszáma
14 oldal; G kategória
ára
Nettó: 8000 Ft
Bruttó:
Papír formátum esetén (5% Áfával): 10080 Ft
PDF (letöltés) formátum esetén (27% Áfával): 10160 Ft
Szabvány életútja
Elődök

Jelenleg nincsenek előzmények

Megtekintett szabvány

MSZ EN 62047-16:2015

2015-11-01

Utódok

Jelenleg nincsenek utódok